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    當(dāng)單面雙接觸的FPC電極長(zhǎng)度大于3.0mm，寬度小于0.3mm時(shí)，在制程當(dāng)中（蝕刻、去膜、表面清洗、貼保護(hù)膜）容易造成電極變形、扭曲、斷裂，嚴(yán)重影響了產(chǎn)品的良率。如以前我司接過(guò)這樣一個(gè)定單，按正常的工藝流程制作，良率很低，只有50%左右，連貨都沒(méi)有辦法交付。后經(jīng)過(guò)的工藝改進(jìn)，良率提升到了90~95%之間。[敏感詞]我就介紹如何進(jìn)行工藝改良：

    1、工藝改進(jìn)出發(fā)點(diǎn)：
    如圖1所示，我們假設(shè)B部分是在制程中（蝕刻后至上保護(hù)膜壓合）需要鏤空的部分。當(dāng)這部分鏤空后，沒(méi)有加強(qiáng)部分來(lái)支撐鏤空的電極，在外力（如水平機(jī)的噴淋壓力、收放、運(yùn)輸）的作用下容易造成電極扭曲、變形、斷裂。所以工藝改善的關(guān)鍵點(diǎn)就是給脆弱的電極一個(gè)支撐物。

    2、支撐物的選用：
    由于支撐物從蝕刻前到上保護(hù)膜都的用，特別是還要進(jìn)行熱壓。所以，我們必須選用能夠耐高溫的物質(zhì)。在此可以選用高溫膠帶，該膠帶要求膠不會(huì)轉(zhuǎn)移，能夠耐熱壓（快壓機(jī)）的高溫。

    3、工藝說(shuō)明：
    線(xiàn)路用濕膜來(lái)做，先絲印B面，烘烤后再絲印A面，再烘烤。然后進(jìn)行曝光、顯影，該步的注意點(diǎn)就是B面不用曝光，若曝光會(huì)造成后續(xù)去膜困難； 顯影后對(duì)B面進(jìn)行貼膠帶，如圖2。在此要注意，高溫膠帶要貼平整，有補(bǔ)強(qiáng)對(duì)位標(biāo)記時(shí)，膠帶盡量不要超過(guò)標(biāo)記線(xiàn)，因?yàn)樵趬汉虾笤诟邷啬z帶位置會(huì)有一點(diǎn)痕跡，如有補(bǔ)強(qiáng)的話(huà)，則正好可以蓋住壓痕； 蝕刻、顯影、表面清洗按正常步驟進(jìn)行； 上保護(hù)膜壓合。此時(shí)一定要對(duì)壓合參數(shù)進(jìn)行一個(gè)優(yōu)化，優(yōu)化原則就是用少時(shí)間、小壓力及較低溫度壓合。因?yàn)楦邷?、長(zhǎng)時(shí)間、大壓力容易造成高溫膠的轉(zhuǎn)移以及高溫膠蓋住的濕膜去膜困難。 撕掉高溫膠帶，去膜、磨板去除電極處的灰化銅； 烘烤，進(jìn)行上保護(hù)膜固化； 后面工序照舊。

    4、后話(huà)
    該方法工序稍微麻煩了一些，而且還要額外高溫膠帶輔助材料。但我覺(jué)得還是很適用電極長(zhǎng)度大于3.0mm，寬度小于0.3mm的單面雙接觸的FPC的制造，對(duì)良率的提升是肯定的。 有興趣可以試試，利弊自己衡量。